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超高真空和高真空閘閥是兩種用于控制真空度的設備，它們的主要區別在于工作壓力范圍和泄漏率。

高真空閘閥工作環境可以是常壓或低于常壓的環境。其泄漏率相對較低，可以在高真空環境下提供可靠的密封性能，通常用于實驗室、光學鍍膜、半導體加工等領域。

超高真空閘閥則可以控制更高的真空度范圍，更適用于需要超高真空環境下的應用。超高真空閘閥需要在超高真空系統中工作，通常使用在電子束焊接、分析儀器、核聚變研究等領域。超高真空閘閥的泄漏率也相對較低，以保證系統的高真空密封性能。

另外，超高真空閘閥的制造和使用也要比高真空閘閥更加復雜和嚴格，因為在超高真空環境下，即使微小的泄漏也可能會對系統造成影響。超高真空閘閥通常采用特殊的材料和制造工藝，以確保其在超高真空環境下的穩定性和可靠性。

高真空閘閥

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